Diseño y construcción de un reactor mecatrónico para el crecimiento de películas delgadas por la técnica de recubrimiento por inmersión

Autores/as

  • A A Velásquez Universidad EAFIT
  • J P Urquijo Universidad de Antioquia
  • Y Gutiérrez Universidad EAFIT

DOI:

https://doi.org/10.17230/ingciencia.10.20.7

Palabras clave:

recubrimiento por inmersión, sistema mecatrónico, películas delgadas.

Resumen

Se presenta el diseño y construcción de un sistema mecatrónico automatizado para el crecimiento de películas delgadas por la técnica de recubrimiento por inmersión. El sistema consta de un porta sustrato que realiza desplazamientos verticales entre dos posiciones ajustables. El movimiento del porta sustrato es controlado por una cadena de transmisión accionada por un motor de corriente continua. Los finales de recorrido del porta-sustrato son sensados por micro-switchs colocados en los extremos del intervalo de movimiento. La adquisición de la señal de los micro-switchs y la generación de la señal de control para el motor son realizadas por una tarjeta de adquisición de datos National Instruments USB 6353. Desde una interfaz gráfica desarrollada en LabVIEW el usuario puede programar todos los parámetros del reactor, entre ellos las velocidades de inmersión y extracción de los sustratos y el tiempo de secado. Se presentan detalles de la construcción y operación del sistema.

PACS: 81.15.-z, 84.30.r

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Biografía del autor/a

  • A A Velásquez, Universidad EAFIT
    Alvaro Velásquez es Físico, Magister en Física y Doctor en Física de la Universidad de Antioquia. Se desempeña como docente de tiempo completo en el Departamento de Ciencias Básicas de la Universidad EAFIT sede Medellín. Es el director de la Línea de Instrumentación adscrita al Grupo de Electromagnetismo Aplicado. Sus áreas de investigación son la instrumentación científica y la espectroscopia Mössbauer.
  • J P Urquijo, Universidad de Antioquia
    Química y Magister en Química, egresada de la Universidad de Antioquia. Actualmente se encuentra finalizando sus estudios de Doctorado en Ciencias Químicas en la Universidad de Antioquia con el Grupo de Estado Sólido. Su área de investigación principal es la síntesis de óxidos de hierro nanoestructurados por rutas húmedas.
  • Y Gutiérrez, Universidad EAFIT
    Ingeniero Físico egresado de la Universidad EAFIT sede Medellín, es estudiante de la Maestría en Física Aplicada de la misma universidad y miembro del Grupo de Electromagnetismo Aplicado. Sus áreas de investigación son la Física del Estado Sólido y la instrumentación científica.

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Publicado

2014-03-27

Número

Vol. 10 Núm. 20 (2014)

Sección

Artículos

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Cómo citar

Velásquez, A. A., Urquijo, J. P., & Gutiérrez, Y. (2014). Diseño y construcción de un reactor mecatrónico para el crecimiento de películas delgadas por la técnica de recubrimiento por inmersión. Ingeniería y Ciencia, 10(20), 93-113. https://doi.org/10.17230/ingciencia.10.20.7

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