Patente como modelo de utilidad: reactor dual asistido por plasma generado por microondas para ataque iónico y deposición de materiales

Autores/as

  • Mauricio Arroyave Franco Universidad EAFIT
  • Juan Manuel Jaramillo Ocampo Universidad EAFIT. Medellín-Colombia

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Biografía del autor/a

  • Mauricio Arroyave Franco, Universidad EAFIT
    Profesor del Departamento de Ciencias Básicas, Escuela de Ciencias y Humanidades, Universidad EAFIT.
  • Juan Manuel Jaramillo Ocampo, Universidad EAFIT. Medellín-Colombia
    PhD. En Ingeniería eléctrica, Profesor del Departamento de Ciencias Básicas, Escuelade Ciencias y Humanidades,

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Publicado

2012-11-30

Número

Sección

Noticias

Cómo citar

Arroyave Franco, M., & Jaramillo Ocampo, J. M. (2012). Patente como modelo de utilidad: reactor dual asistido por plasma generado por microondas para ataque iónico y deposición de materiales. Ingeniería y Ciencia, 8(16), 337-338. https://publicaciones.eafit.edu.co/index.php/ingciencia/article/view/1719

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