Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC

Autores/as

  • D M Devia Universidad Tecnológica de Pereira
  • Fernando Mesa Universidad Tecnológica de Pereira
  • Pedro José Arango Universidad Nacional de Colombia, sede Manizales

Palabras clave:

Arco pulsado, Microestructura, TiN/TiC, XPS, XRD

Resumen

Las bicapas de TiN/TiC se depositaron utilizando la técnica de deposición en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en un rango de 100-120±C, con intervalos de 5±C. Los recubrimientos se analizaron por medio de XPS y XRD. A partir del tratamiento de las señales de los espectros angostos de XPS y los patrones de XRD, se determino la formación de los compuestos TiN (Nitruro de Titanio), TiC (Carburo de Titanio) y TiCN (carbonitruro de titanio) en la fase cristalográfica fm-3m correspondiente a las fases FCC de estos compuestos sintetizados.

PACS: 68.35.Ct, 68.55.A-, 68.65.Ac

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Biografía del autor/a

  • D M Devia, Universidad Tecnológica de Pereira
    Magíster en Ciencias Físicas
  • Pedro José Arango, Universidad Nacional de Colombia, sede Manizales
    Magíster Física

Referencias

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Número

Vol. 7 Núm. 14 (2011)

Sección

Artículos

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Cómo citar

Devia, D. M., Mesa, F., & Arango, P. J. (2011). Influencia de la temperatura del sustrato en la microestructura de recubrimientos de TiN/TiC. Ingeniería y Ciencia, 7(14), 71-82. https://publicaciones.eafit.edu.co/index.php/ingciencia/article/view/426

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